电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
发布日期：
2013-09-06
实施日期：
2014-05-01
【到馆阅览须知】
国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
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开放时间：每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：北京市海淀区知春路4号
乘车线路：乘坐地铁10号线、昌平线，在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
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