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半导体溅射靶材高纯钛金属粉末
发布日期: 2024-01-31
实施日期: 2024-02-15
主要技术内容:本文件规定了半导体溅射靶材高纯钛金属粉末的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。本文件适用于半导体溅射靶材高纯钛金属粉末的生产及检验
分类信息
发布单位或类别: 中国-团体标准
ICS分类: 77.160冶金 - 粉末冶金
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