首页 馆藏资源 舆情信息 标准服务 科研活动 关于我们
现行 BS ISO 12406:2010
到馆阅读
收藏跟踪
购买正版
Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Method for depth profiling of arsenic in silicon 表面化学分析 二次离子质谱法 硅中砷的深度分析方法
发布日期: 2010-11-30
交叉引用:ISO 14237:2010ISO 18114:2003ISO 18115-1ISO 17560ISO 5725-2购买本文件时提供的所有现行修订版均包含在购买本文件中。
Cross References:ISO 14237:2010ISO 18114:2003ISO 18115-1ISO 17560ISO 5725-2All current amendments available at time of purchase are included with the purchase of this document.
分类信息
发布单位或类别: 英国-英国标准学会
关联关系
研制信息
相似标准/计划/法规
现行
BS ISO 20411-2018
Surface chemical analysis. Secondary ion mass spectrometry. Correction method for saturated intensity in single ion counting dynamic secondary ion mass spectrometry
表面化学分析 二次离子质谱法 单离子计数动态二次离子质谱中饱和强度的校正方法
2018-03-14
现行
ISO 20411-2018
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Correction method for saturated intensity in single ion counting dynamic secondary ion mass spectrometry
表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 单离子计数动态二次离子质谱法中饱和强度的校正方法
2018-03-09
现行
ISO/TS 22933-2022
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Method for the measurement of mass resolution in SIMS
表面化学分析.二次离子质谱法.模拟离子质谱中质量分辨率的测量方法
2022-04-01
现行
BS ISO 13084-2018
Surface chemical analysis. Secondary ion mass spectrometry. Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer
表面化学分析 二次离子质谱法 飞行时间二次离子质谱仪质量刻度的校准
2018-11-16
现行
ISO 13084-2018
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer
表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 用于飞行时间二次离子质谱仪的质谱的校准
2018-11-15
现行
GB/T 40129-2021
表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
Surface chemical analysis—Secondary ion mass spectrometry—Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer
2021-05-21
现行
BS ISO 23830-2008
Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Repeatability and constancy of the relative-intensity scale in static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析 二次离子质谱法 静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
2008-12-31
现行
GB/T 43663-2024
表面化学分析 二次离子质谱 静态二次离子质谱相对强度标的重复性和一致性
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Repeatability and constancy of the relative-intensity scale in static secondary-ion mass spectrometry
2024-03-15
现行
ISO 23830-2008
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Repeatability and constancy of the relative-intensity scale in static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析——二次离子质谱法——静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
2008-11-05
现行
AS ISO 22048-2006
Surface chemical analysis - Information format for static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析.静态二次离子质谱法的信息格式
2006-10-20
现行
KS D ISO 22048(2020 Confirm)
표면 화학 분석-정적 이차 이온 질량 분광 분석법의 정보 포맷
表面化学分析 - 静态二次离子质谱的信息格式
2005-12-28
现行
ISO 22048-2004
Surface chemical analysis — Information format for static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析——静态二次离子质谱信息格式
2004-08-25
现行
BS ISO 22048-2004
Surface chemical analysis. Information format for static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析 静态二次离子质谱信息格式
2005-03-31
现行
BS ISO 17560-2014
Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Method for depth profiling of boron in silicon
表面化学分析 二次离子质谱法 硅中硼的深度剖面分析方法
2014-09-30
现行
GB/T 32495-2016
表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of arsenic in silicon
2016-02-24
现行
GB/T 40109-2021
表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon
2021-05-21
现行
ISO 12406-2010
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth profiling of arsenic in silicon
表面化学分析——二次离子质谱法——硅中砷的深度剖面分析方法
2010-11-08
现行
ISO 17560-2014
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth profiling of boron in silicon
表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法
2014-09-10
现行
BS 10/30199193 DC
BS ISO 13084. Surface chemical analysis. Secondary ion mass spectrometry. Calibration of the mass scale for a time of flight secondary ion mass spectrometer
BS ISO 13084 表面化学分析 二次离子质谱法 飞行时间二次离子质谱仪质量刻度的校准
2010-04-22
现行
BS 07/30138812 DC
BS ISO 23830. Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Repeatability and constancy of the relative-intensity scale in static secondary-ion mass spectrometry
BS ISO 23830 表面化学分析 二次离子质谱法 静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
2007-04-24