T/CNIA 0064-2020-多晶硅行业用无尘擦拭布中杂质含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法-国家数字标准馆

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多晶硅行业用无尘擦拭布中杂质含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法

发布日期： 2020-05-27

实施日期： 2020-08-01

主要技术内容:本标准规定了多晶硅行业用无尘擦拭布中硼、磷、钠、镁、钾、钙、铬、铁、镍、铜、锌杂质含量的测定方法。本标准适用于多晶硅行业用无尘擦拭布中硼、磷、钠、镁、钾、钙、铬、铁、镍、铜、锌杂质含量的测定，测定范围为0.10 μg/g～10.00 μg/g

分类信息

发布单位或类别：中国-团体标准

CCS分类： H10/19冶金 - 金属化学分析方法

ICS分类： 77.040.01金属材料试验 - 金属材料试验综合

关联关系

研制信息

归口单位：中国有色金属工业协会

起草单位：亚洲硅业（青海）股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、苏州鸿博斯特超净股份有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、新特能源股份有限公司、内蒙古神舟硅业有限责任公司、国标（北京）检验认证有限公司

起草人：王体虎、宗冰、蔡延国、魏东亮、田润朝、曹岩德、刘凤华、顾小祥、王桃霞、杨晓青、刘国霞、董燕军、刘红、陈英、王海礼、拜黎洁、张海燕、安军林

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