现行

JIS K 1405-1995

Hydrofluoric acid
氢氟酸

1995-01-01

现行

MIL MIL-F-36690A Notice 1-Cancellation

FOLIC ACID TABLETS, USP (S/S BY A-A-54121)
FOLIC ACID TABLETS USP（S/S BY A-A-54121）

1990-05-31

现行

MIL MIL-I-37668 Notice 1-Cancellation

IOPANOIC ACID TABLETS, USP (S/S BY A-A-53706)
iopanic ACID TABLETS USP（S/S BY A-A-53706）

1989-04-15

现行

MIL MIL-E-50008B Notice 1-Cancellation

2-ETHYLHEXANOIC ACID, TECHNICAL (NO S/S DOCUMENT)
2-ETHYLHEXANOIC ACID 技术（无S/S文件）

1989-04-05

现行

GOST 10484-1978

Реактивы. Кислота фтористоводородная. Технические условия
试剂氢氟酸 规格

现行

GB/T 620-2011

化学试剂 氢氟酸
Chemical reagent - Hydrofluoric acid

2011-05-12

现行

GOST 2567-1989

Кислота фтористоводородная техническая. Технические условия
技术性氢氟酸 规格

现行

GB/T 7744-2023

工业氢氟酸
Hydrofluoric acid for industrial use

2023-09-07

现行

MIL MIL-D-51411 Amendment 1

DYE, YELLOW, THIODIPHENYL-4,4'-DIAZO-BIS-SALICYLIC ACID
DYE YELLOW THIODIPHENYL-4,4'-DIAZO-BIS-SALICYLIC ACID

1989-02-22

现行

GB/T 27569-2011

氢氟酸生产技术规范
Production technical regulation for Hydrofluoric acid

2011-12-05

现行

MIL MIL-C-37351A Notice 2-Cancellation

CITRIC ACID, USP, HYDROUS (NO S/S DOCUMENT) (SUPERSEDING MIL-C-37351)
CITRIC ACID USP HYDROUS（NO S/S文件）（取代MIL-C-37351）

1989-08-21

现行

MIL MIL-C-37351A Notice 1-Validation

CITRIC ACID, USP, HYDROUS (NO S/S DOCUMENT) (SUPERSEDING MIL-C-37351)
CITRIC ACID USP HYDROUS（NO S/S文件）（取代MIL-C-37351）

1988-03-23

现行

KS M 1804(2018 Confirm)

반도체용 플루오르화수소산 시험방법
氢氟酸用于半导体测试方法

2008-12-19

现行

HG/T 4509-2013

工业高纯氢氟酸
High purity hydrofluoric acid for industrial use

2013-10-17

现行

KS M 1804(2023 Confirm)

반도체용 플루오르화수소산 시험방법
半导体用氢氟酸试验方法

2008-12-19

现行

SJ/T 11554-2015

用电感耦合等离子体发射光谱法测定氢氟酸中金属元素的含量
Determination of the metals'concentration of hydrofluoric acid by ICP-OES

2015-10-10

现行

GB/T 31369-2015

太阳电池用电子级氢氟酸
Electronic grade hydrofluoric acid for solar cells

2015-02-04

现行

MIL MIL-A-24641A

ACID, HYDROFLUORIC: TECHNICAL (SUPERSEDING MIL-A-24641)
氢氟酸:技术（取代MIL-A-24641）

1986-10-27

现行

MIL MIL-R-81903A Amendment 2

REMOVER, ACID ACTIVATED, FOR AMINE-CURED EPOXY COATING SYSTEMS (SUPERSEDING MIL-R-81903)
去除酸 ACID 用于固化环氧涂料体系（取代MIL-R-81903）

1985-04-16

现行

KS M 8356(2018 Confirm)

고순도시약-염산
高纯度的HYDROCHLORIE ACID

2005-06-30