首页 馆藏资源 舆情信息 标准服务 科研活动 关于我们
现行 ГОСТ 25196-82
到馆阅读
收藏跟踪
购买正版
Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования 真空设备 离子注入装置一般技术要求
实施日期: 1983-07-01
本标准适用于旨在用于固体,液体和气态物质57h10重量从1666到艺术用于离子注入,离子注入装置。零下27到67h10 217.534艺术。的零下27千克(1至131即米),包括硼,磷,锌,砷的基本和多电荷离子,硒和锑与来自艺术1,6h10离子的等效能量。零下15到艺术1,6h10。减去13Ĵ(10keV至1200)在半导体器件中,集成电路和其他微电子产品的制造
Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники
分类信息
关联关系
研制信息
相似标准/计划/法规