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광학 및 포토닉스-광학계와 광학요소에 대한 간섭측정-제1부:용어, 정의 및 기본관계 光学和光子学光学元件和光学系统的干涉测量第1部分:术语、定义和基本关系
发布日期: 2011-12-30
该标准给出了光学系统和光学元件干涉测量中术语及定义,以及波面和光学元件表面形貌干涉测量的基本物理和技术关系,并说明了由于被测量波面的波动特性,干涉仪的组成和使用的原理之所以重要。除了扩展的平面波外,所有波面在传播时都会变形,因此该标准包含了关于波动传播的基本信息。实际上,干涉测量可以由多种组成,在该标准中介绍了2束干涉(two-beam interference)的基本组成。根据2束干涉方程和复小振幅的概念,光波动的数学公式被用来解释从时间域或空间域测量的强度分布中获取相位信息的原理。偶然误差或系统误差会影响干涉测量的结果,因此该标准说明了应该明确区分的误差形态。
이 표준은 광학계와 광학요소에 대한 간섭측정에서 용어 및 정의, 그리고 파면과 광학요소의 표면형상 간섭 측정을 위한 기본적인 물리적, 기술적 관계를 제시하고, 측정되는 파면의 파동적 특성으로 인하여 간섭계의 구성과 사용에 대한 원리가 중요한 이유를 설명하고자 한다.확장된 평면파를 제외한 모든 파면은 전파될 때 형태가 변형되기 때문에 이 표준은 파동의 전파에대한 기본적인 정보를 포함하고 있다.실제로 간섭 측정은 다양한 구성으로 이루어질 수 있으며, 이표준에서는 2빔 간섭(two-beaminterference)의 기본적인 구성 전반에 대해 설명한다.2빔 간섭 방정식과 복소 진폭의 개념에 근거한 광파동의 수학적 수식은 시간영역이나 공간영역에서측정된 강도 분포에서 위상 정보를 획득하는 원리들을 설명하기 위해 사용된다.우연오차나 계통오차는 간섭측정의 결과에 영향을 미칠 수 있으므로, 이 표준에서는 명백하게 구별되어야 하는 오차의 형태를 설명하고 있다.
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