该技术报告规定了用感应耦合等离子体光谱分析法测定钢中硅含量的定量方法。该方法可适用于质量分数0.02%至质量分数5%的硅含量。该方法对样品使用一种基于矩阵匹配的检定方法，将检定溶液匹配得非常接近，并将被分析样品的大致硅浓度附近的含量近距离标记。因此，样品中所有元素的浓度必须大致已知。对于浓度未知的样品，应采用半定量方法（semi quantitative method）进行分析。该程序的优点是自动补偿来自矩阵的所有可能干扰，提高了准确度。这种光谱干扰很重要，在高合金矩阵中可能会很严重。因此，使用的光谱仪必须满足方法中规定的性能标准，以满足所选分析线的性能标准。

이 기술 보고서는 유도 결합 플라스마 분광 분석법에 의한 강의 규소 함유량 정량 방법을 규정한다. 이 방법은 질량분율 0.02 % ~ 질량분율 5 %까지의 규소 함유량에 대하여 적용할 수 있다. 이 방법은 시료에 대하여 검정 용액을 매우 가깝게 매트릭스 매칭시키는 그리고 분석될 시료의 대략적인 실리콘 농도 부근의 함유량의 근접 브래키팅을 기반으로하는 검정을 사용한다. 따라서 시료 중 모든 원소의 농도는 대략적으로 알려져 있어야 한다. 농도가 알려지지 않은 시료는 반정량 방법(semi quantitative method)으로 분석되어야 한다. 이 절차의 장점은 매트릭스로부터의 가능한 모든 간섭이 자동적으로 보상되어 정확도가 높아진다는 것이다. 이런 분광 간섭은 매우 중요한데 고합금 매트릭스에서는 심각할 수 있다. 따라서 사용되는 분광기는 선택된 분석선에 대하여 방법에 명시된 성능 기준을 충족하는 것이 필수적이다.