现行

YS/T 1053-2015

电子薄膜用高纯钴靶材
High-purity cobalt sputtering target used in electronic film

2015-04-30

现行

YS/T 893-2013

电子薄膜用高纯钛溅射靶材
High-purity sputtering titanium target used in electronic film

2013-10-17

现行

YS/T 819-2012

电子薄膜用高纯铜溅射靶材
High-purity sputtering copper target used in electronic film

2012-11-07

现行

YS/T 1025-2015

电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film

2015-04-30

现行

GB/T 29658-2013

电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film

2013-09-06

现行

T/CNIA 0062-2020

电子工业用高纯氢氟酸

2020-05-27

现行

T/CNIA 0121-2021

电子工业用高纯硫酸

2021-03-19

现行

HG/T 3587-2023

电子工业用高纯钛酸钡

2023-12-20

现行

T/CNIA 0063-2020

电子工业用高纯硝酸

2020-05-27

现行

GB/T 18994-2014

电子工业用气体 高纯氯
Gases for electronic industry―High purity chlorine

2014-12-22

现行

T/CASME 272-2022

电子工业用高纯氯化氢气体

2022-12-29

现行

SJ/T 3328.1-2016

电子产品用高纯石英砂 第1部分 技术条件

2016-01-15

现行

T/CNIA 0119-2021

电子工业用高纯硝酸中痕量阴离子含量的测定 离子色谱法

2021-03-19

现行

SJ/T 3328.2-2016

电子产品用高纯石英砂 第2部分 分析方法通则

2016-01-15

现行

SJ/T 3328.10-2016

电子产品用高纯石英砂 第10部分 铅的测定

2016-01-15

现行

SJ/T 3328.7-2016

电子产品用高纯石英砂 第7部分 铬的测定

2016-01-15

现行

SJ/T 3328.6-2016

电子产品用高纯石英砂 第6部分 铜的测定

2016-01-15

现行

SJ/T 3328.8-2016

电子产品用高纯石英砂 第8部分 铝的测定

2016-01-15

现行

T/CNIA 0117-2021

电子工业用高纯氢氟酸中痕量阴离子含量的测定 离子色谱法

2021-03-19

现行

SJ/T 3228.2-2016

电子产品用高纯石英砂 第2部分：分析方法通则
High purity arenaceous quartz for used in electronics part 2:General specification for testing methods

2016-01-15