Государственная система обеспечения единства измерений. Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Регистрация и представление данных
确保测量一致性的状态系统 表面化学分析 在X射线光电子能谱(XPS)中记录和报告数据
Настоящий стандарт устанавливает минимальный объем информации, которую необходимо включать в протокол при проведении химического анализа поверхности и приповерхностных слоев исследуемого образца с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии.
Настоящий стандарт применяют при проведении количественного и качественного анализа элементного состава исследуемых образцов