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现行 YS/T 23-2016
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硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法 Test method for thickness of epitaxial layers—Stacking fault size
发布日期: 2016-04-05
实施日期: 2016-09-01
本标准规定了利用堆垛层错尺寸法测量硅外延层厚度的方法。 本标准适用于在(111)、(100) 和(110) 晶向的硅单晶衬底上生长的 2μm~120μm硅外延层厚度的测量
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