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半导体器件 应力迁移试验 第1部分:铜应力迁移试验 Semiconductor devices – Stress migration test - Part 1: Copper stress migration test
下达日期: 2021-08-24
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研制信息
相似标准/计划/法规
现行
IEC 62880-1-2017
Semiconductor devices - Stress migration test standard - Part 1: Copper stress migration test standard
半导体器件 - 应力迁移测试标准 - 第1部分 - 铜应力迁移测试标准
2017-08-23
现行
BS IEC 62880-1-2017
Semiconductor devices. Stress migration test standard-Copper stress migration test standard
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2020-07-21
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DIN EN 62880-1-DRAFT
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文件草稿.半导体器件.半导体器件的晶圆级可靠性.第1部分:铜应力迁移试验方法(IEC 47/2191/CD:2014)
2014-08-01
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2019-08-30
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Semiconductor devices - Mechanical and climatic test methods -- Part 4: Damp heat, steady state, highly accelerated stress test (HAST).
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2003-05-30
现行
IEC 60749-4-2017
Semiconductor devices - Mechanical and climatic test methods - Part 4: Damp heat, steady state, highly accelerated stress test (HAST)
半导体器件 - 机械和气候测试方法第4部分:潮湿热 稳态 高加速应力测试(HAST)
2017-03-03
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KS C IEC 60749-4
반도체 소자 — 기계 및 기후적 시험방법 — 제4부: 가습 가열, 평형 상태,가속 스트레스 시험
半导体器件 - 机械和气候测试方法第4部分:潮湿热 稳态 高加速应力测试(HAST)
2020-07-23
现行
GB/T 4937.4-2012
半导体器件 机械和气候试验方法 第4部分:强加速稳态湿热试验(HAST)
Semiconductor devices - Mechanical and climatic test methods - Part 4: Damp heat, steady state, highly accelerated stress test (HAST)
2012-11-05
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IEC 62047-16-2015
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods
半导体器件 - 微机电器件 - 第16部分:确定MEMS膜残余应力的测试方法 - 晶片曲率和悬臂梁偏转方法
2015-03-05
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DIN EN 62715-6-1-DRAFT
Draft Document - Flexible display devices - Part 6-1: Mechanical stress test methods (IEC 110/361/CD:2012)
文件草案.柔性显示设备.第6-1部分:机械应力试验方法(IEC 110/361/CD:2012)
2012-07-01
现行
DIN EN 62047-16
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods (IEC 62047-16:2015); German version EN 62047-16:2015
半导体器件.微机电器件.第16部分:测定MEMS薄膜残余应力的试验方法.圆片弯曲和悬臂梁偏转法(IEC 62047-16-2015);德文版EN 62047-16:2015
2015-12-01