首页 馆藏资源 舆情信息 标准服务 科研活动 关于我们
国家标准 行业标准 地方标准 团体标准 国际（区域）标准 国外国家标准 国际性专业标准 技术法规
国内舆情 国际舆情
文献服务 知识服务 服务站点
标准数字化 技贸措施研究
国家标准馆 国家数字标准馆 发展大事记
搜索
高级检索
批量检索
高级检索
起草单位: 中国科学院微电子中心
标准层级
全部
国家标准
行业标准
地方标准
团体标准
国际（区域）标准
国外国家标准
国际性专业标准
技术法规
国家
全部
中国(6)
标准组织
全部
国家标准(6)
发布年代
全部
1999(3)
1997(2)
1996(1)
标准状态
全部
现行(6)
ICS
全部
31电子学(6)
CCS
全部
L电子元器件与信息技术(6)
展开全部分类
  • 排序结果：
  • 相关性
  • 标准号
  • 发布时间
现行
GB/T 16880-1997
光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则
到馆阅读
收藏跟踪
Guidelines for photomask defect classification and size definition
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 1997-06-20
现行
GB/T 16879-1997
掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
到馆阅读
收藏跟踪
Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 1997-06-20
现行
GB/T 17865-1999
焦深与最佳聚焦的测量规范
到馆阅读
收藏跟踪
Specification for measuring depth of focus and best focus
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 1999-09-13
现行
GB/T 17866-1999
掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
到馆阅读
收藏跟踪
Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 1999-09-13
现行
GB/T 17864-1999
关键尺寸（CD）计量方法
到馆阅读
收藏跟踪
CD Metrology procedures
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 1999-09-13
现行
GB/T 16524-1996
光掩模对准标记规范
到馆阅读
收藏跟踪
Specification for registration marks for photomasks
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 1996-09-09
  • 关于国家数字标准馆
  • 《国家标准化发展纲要》提出建设国家数字标准馆，推动标准化工作向数字化、网络化、智能化转型。中国标准化研究院正在全力推进国家数字标准馆建设，力争在2026年底建成“一个中心”和“一个平台”，即全球领先的标准数据资源中心，涵盖标准全生命周期的数字化、网络化、智能化研究与服务平台。
    • 文献服务
  • 查标准
  • 看标准
  • 买标准
  • 译标准
    • 知识服务
  • 查新颖性
  • 查有效性
  • 跟踪标准
  • 比对标准
    • 标准数字化
  • 专题数据库
  • 标准管理系统
  • 大数据分析系统
  • 标准智能研制系统
    • 出版物经营许可证：新出发京批字第直170229号
    地址：北京市海淀区知春路4号
    邮箱：service@cnis.ac.cn
    技术支持与订单查询：010-58811972/1360/1341/1328 京ICP备10046988号-46
    ️版权归中国标准化研究院所有