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发布时间
现行
T/CNIA 0119-2021
电子工业用高纯硝酸中痕量阴离子含量的测定 离子色谱法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
71.040.40化学分析
现行
T/CNIA 0118-2021
电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
71.040.40化学分析
现行
T/CNIA 0141-2022
多晶硅生产用氢气中金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2022-02-28
CCS分类：
ICS分类：
77.040.01金属材料试验综合
现行
T/CNIA 0120-2021
电子工业用高纯硝酸中痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
71.040.40化学分析
现行
T/CNIA 0144-2022
半导体洁净环境用丁腈手套
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2022-02-28
CCS分类：
ICS分类：
83.140.01橡胶和塑料制品综合
现行
T/CNIA 0103-2021
绿色设计产品评价技术规范 电子级氯硅烷
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团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/CNIA 0117-2021
电子工业用高纯氢氟酸中痕量阴离子含量的测定 离子色谱法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
71.040.40化学分析
现行
GB/T 35306-2023
硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
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Determination of carbon and oxygen content in single crystal silicon—Low temperature fourier transform infrared spectrometry method
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2023-08-06
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
GB/T 24582-2023
多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
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Test method for measuring surface metal impurity content of polycrystalline silicon—Acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry method
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2023-08-06
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
GB/T 24581-2022
硅单晶中III、V族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
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Test method for Ⅲ and Ⅴ impurities content in single crystal silicon—Low temperature FT-IR analysis method
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2022-03-09
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
【到馆阅览须知】
国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
1. 本馆向在国家数字标准馆网络平台上完成实名注册和预约的读者开放。
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6. 请遵守公共秩序和国家标准馆相关管理规定，服从工作人员管理，自觉维护参观秩序和良好的阅读环境。
开放时间：
每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
乘坐地铁10号线、昌平线，在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
服务咨询：
赵老师 电话：010-58811369 邮箱：zhaoping@cnis.ac.cn
刘老师 电话：010-58811368 邮箱：liuyzh@cnis.ac.cn
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