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现行
T/ICMTIA BS0029-2022
集成电路材料产品成熟度等级划分及定义
发布单位或类别:团体标准
发布日期: 2022-07-04
CCS分类:
现行
发布单位或类别:团体标准
发布日期: 2023-03-01
CCS分类:
现行
Molybdenum-titanium alloy target
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2018-04-30
现行
Chrome-molybdenum alloy target
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2018-04-30
现行
YS/T 1025-2015
电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2015-04-30
现行
Evaporated titanium material
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2016-07-11
ICS分类:77.150.50钛产品
现行
Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2016-07-11
现行
Sputtering nickel vanadium alloy target used in integrated circuit device
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2013-10-17
现行
YS/T 935-2013
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2013-10-17
现行
Specifications for sintered metal materials
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2022-03-09
ICS分类:77.160粉末冶金