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相关性
标准号
发布时间
现行
T/ICMTIA TG0011-2022
集成电路用高纯铝及铝合金溅射靶材
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发布单位或类别:
团体标准
发布日期:
2022-04-08
CCS分类:
ICS分类:
01.020术语学(原则和协调配合)
现行
YS/T 1151-2016
锡蒸发料
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Evaporated tin material
发布单位或类别:
行业标准-有色金属
发布日期:
2016-07-11
CCS分类:
H62重金属及其合金
ICS分类:
77.150.60铅、锌和锡产品
现行
YS/T 1150-2016
高纯钴铸锭
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High purity cobalt ingot
发布单位或类别:
行业标准-有色金属
发布日期:
2016-07-11
CCS分类:
H62重金属及其合金
ICS分类:
77.150.70镉和钴产品
现行
YS/T 1141-2016
钛蒸发料
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Evaporated titanium material
发布单位或类别:
行业标准-有色金属
发布日期:
2016-07-11
CCS分类:
H64稀有轻金属及其合金
ICS分类:
77.150.50钛产品
现行
YS/T 1124-2016
磁性溅射靶材透磁率测试方法
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Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target
发布单位或类别:
行业标准-有色金属
发布日期:
2016-07-11
CCS分类:
H21金属物理性能试验方法
ICS分类:
77.120.99其他有色金属及其合金
现行
YS/T 1123-2016
铂蒸发料
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Evaporated platinum material
发布单位或类别:
行业标准-有色金属
发布日期:
2016-07-11
CCS分类:
H68贵金属及其合金
ICS分类:
77.150.99其他有色金属产品
现行
YS/T 935-2013
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
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Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
发布单位或类别:
行业标准-有色金属
发布日期:
2013-10-17
CCS分类:
H68贵金属及其合金
ICS分类:
77.150.99其他有色金属产品
现行
GB/T 29658-2013
电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
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High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2013-09-06
CCS分类:
H61轻金属及其合金
ICS分类:
77.120.10铝和铝合金
现行
GB/T 39158-2020
平面显示用高纯铜旋转管靶
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High purity copper rotatable tube target for flat panel display
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2020-11-19
CCS分类:
H62重金属及其合金
ICS分类:
77.150.30铜产品
现行
GB/T 34649-2017
磁控溅射用钌靶
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Magnetron sputtering ruthenium target
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2017-09-29
CCS分类:
H68贵金属及其合金
ICS分类:
77.150.99其他有色金属产品
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