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  • 发布时间
现行
T/ICMTIA TG0011-2022
集成电路用高纯铝及铝合金溅射靶材
发布单位或类别:团体标准
发布日期: 2022-04-08
CCS分类:
现行
Evaporated tin material
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2016-07-11
现行
High purity cobalt ingot
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2016-07-11
现行
Evaporated titanium material
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2016-07-11
ICS分类:77.150.50钛产品
现行
Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2016-07-11
现行
Evaporated platinum material
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2016-07-11
现行
YS/T 935-2013
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2013-10-17
现行
GB/T 29658-2013
电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2013-09-06
现行
High purity copper rotatable tube target for flat panel display
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2020-11-19
ICS分类:77.150.30铜产品
现行
Magnetron sputtering ruthenium target
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2017-09-29