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起草人: 何友琴
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SJ/T 11503-2015
碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
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Test methods for measuring surface roughness of polished monocrystalline silicon carbide wafers
发布单位或类别：行业标准-电子
发布日期： 2015-04-30
现行
SJ/T 11498-2015
重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
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Test method for measuring oxygen contamination in heavily doped silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
发布单位或类别：行业标准-电子
发布日期： 2015-04-30
现行
SJ/T 11493-2015
硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法
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Test method for measuring nitrogen concentration in silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
发布单位或类别：行业标准-电子
发布日期： 2015-04-30
现行
GB/T 29852-2013
光伏电池用硅材料中P、As、Sb施主杂质含量的二次离子质谱测量方法
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Test method for measuring Phosphorus, Arsenic and Antimony in silicon materials used for photovoltaic applications by secondary ion mass spectrometry
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2013-11-12
现行
GB/T 39144-2020
氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法
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Test method for magnesium content in gallium nitride materials—Secondary ion mass spectrometry
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2020-10-11
现行
GB/T 32495-2016
表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
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Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of arsenic in silicon
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2016-02-24
现行
GB/T 42263-2022
硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法
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Determination of nitrogen content in silicon single crystal—Secondary ion mass spectrometry method
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2022-12-30
现行
GB/T 29851-2013
光伏电池用硅材料中B、Al受主杂质含量的二次离子质谱测量方法
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Test method for measuring Boron and Aulminium in silicon materials used for photovoltaic applications by secondary ion mass spectrometry
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2013-11-12
现行
GB/T 24580-2009
重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
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Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2009-10-30
现行
GB/T 41153-2021
碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
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Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2021-12-31
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