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起草人: 何金江
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77冶金(13)
CCS
全部
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展开全部分类
排序结果：
相关性
标准号
发布时间
现行
T/ICMTIA TG0036-2023
集成电路用高纯铝钪合金靶材
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2023-03-01
CCS分类：
ICS分类：
77.120.10铝和铝合金
现行
T/ICMTIA BS0032-2023
集成电路材料供应商质量评价指标
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2023-03-01
CCS分类：
ICS分类：
03.100.99有关公司(企业)组织管理的其他标准
现行
YS/T 1151-2016
锡蒸发料
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Evaporated tin material
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2016-07-11
CCS分类：
H62重金属及其合金
ICS分类：
77.150.60铅、锌和锡产品
现行
YS/T 1150-2016
高纯钴铸锭
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High purity cobalt ingot
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2016-07-11
CCS分类：
H62重金属及其合金
ICS分类：
77.150.70镉和钴产品
现行
YS/T 1141-2016
钛蒸发料
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Evaporated titanium material
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2016-07-11
CCS分类：
H64稀有轻金属及其合金
ICS分类：
77.150.50钛产品
现行
YS/T 1124-2016
磁性溅射靶材透磁率测试方法
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Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2016-07-11
CCS分类：
H21金属物理性能试验方法
ICS分类：
77.120.99其他有色金属及其合金
现行
YS/T 937-2013
镍铂靶材
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Nickel-platinum target
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2013-10-17
CCS分类：
H68贵金属及其合金
ICS分类：
77.150.99其他有色金属产品
现行
YS/T 936-2013
集成电路器件用镍钒合金靶材
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Sputtering nickel vanadium alloy target used in integrated circuit device
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2013-10-17
CCS分类：
H62重金属及其合金
ICS分类：
77.150.40镍和铬产品
现行
YS/T 935-2013
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
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Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2013-10-17
CCS分类：
H68贵金属及其合金
ICS分类：
77.150.99其他有色金属产品
现行
YS/T 893-2013
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
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High-purity sputtering titanium target used in electronic film
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2013-10-17
CCS分类：
H64稀有轻金属及其合金
ICS分类：
77.150.50钛产品
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国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
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6. 请遵守公共秩序和国家标准馆相关管理规定，服从工作人员管理，自觉维护参观秩序和良好的阅读环境。
开放时间：
每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
乘坐地铁10号线、昌平线，在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
服务咨询：
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刘老师 电话：010-58811368 邮箱：liuyzh@cnis.ac.cn
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