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标准号
发布时间
现行
T/IAWBS 014-2021
碳化硅单晶抛光片位错密度的测试方法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2021-09-15
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/IAWBS 001-2021
碳化硅单晶
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2021-09-16
CCS分类：
J43磨料与磨具
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/IAWBS 012-2019
碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2019-12-27
CCS分类：
H83化合物半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/IAWBS 010-2019
碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度检测方法-激光散射检测法
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团体标准
发布日期：
2019-12-27
CCS分类：
H20/29金属理化性能试验方法
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/CNIA 0101-2021
绿色设计产品评价技术规范 碳化硅单晶抛光片
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/ZSA 38-2020
SiC晶片的残余应力检测方法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2020-12-17
CCS分类：
H80/84半金属与半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/IAWBS 021-2024
碳化硅晶片边缘轮廓检验方法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2024-05-17
CCS分类：
H80/84半金属与半导体材料
ICS分类：
29.020电气工程综合
现行
T/IAWBS 005-2024
6~8英寸碳化硅单晶抛光片
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2024-01-12
CCS分类：
H冶金
ICS分类：
29.045半导体材料
废止
T/IAWBS 005-2018
6 英寸碳化硅单晶抛光片
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2018-12-06
CCS分类：
H83化合物半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 43885-2024
碳化硅外延片
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Silicon carbide epitaxial wafers
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2024-04-25
CCS分类：
H83化合物半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
【到馆阅览须知】
国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
1. 本馆向在国家数字标准馆网络平台上完成实名注册和预约的读者开放。
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6. 请遵守公共秩序和国家标准馆相关管理规定，服从工作人员管理，自觉维护参观秩序和良好的阅读环境。
开放时间：
每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
乘坐地铁10号线、昌平线，在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
服务咨询：
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刘老师 电话：010-58811368 邮箱：liuyzh@cnis.ac.cn
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