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现行
发布单位或类别:团体标准
发布日期: 2023-12-29
现行
YS/T 935-2013
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
发布单位或类别:行业标准-有色金属
发布日期: 2013-10-17
现行
GB/T 29658-2013
电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2013-09-06
未生效
GB/T 24627-2023
外科植入物用镍-钛形状记忆合金加工材
Wrought nickel-titanium shape memory alloys for surgical implants
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2023-12-28