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GB/T 14849.4-2008

工业硅化学分析方法　第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

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Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

发布单位或类别：国家标准

发布日期： 2008-06-09

CCS分类：H17半金属及半导体材料分析方法

ICS分类：77.120.10铝和铝合金

国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。

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地　　址：北京市海淀区知春路4号

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赵老师电话：010-58811369 邮箱：zhaoping@cnis.ac.cn
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出版物经营许可证：新出发京批字第直170229号

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