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起草人: 王岩华
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现行
GB/T 41064-2021
表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
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Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2021-12-31
现行
GB/T 41073-2021
表面化学分析 电子能谱 X射线光电子能谱峰拟合报告的基本要求
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Surface chemical analysis—Electron spectroscopies—Minimum reporting requirements for peak fitting in X-ray photoelectron spectroscopy
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2021-12-31
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20233283-T-469
微束分析 钢铁材料缺陷电子束显微分析方法通则
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Microbeam Analysis—Guide for Electron Beam Microanalysis of Defect in Steel Materials
发布单位或类别：国家标准计划
下达日期： 2023-12-28
现行
GB/T 15246-2022
微束分析 硫化物矿物的电子探针定量分析方法
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Microbeam analysis—Quantitative analysis of sulfide minerals by electron probe microanalysis
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2022-10-12
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