登 录
注 册
个人中心
退出账号
首页
馆藏资源
舆情信息
标准服务
科研活动
关于我们
国家标准
行业标准
地方标准
团体标准
国际（区域）标准
国外国家标准
国际性专业标准
技术法规
国内舆情
国际舆情
文献服务
知识服务
服务站点
标准数字化
技贸措施研究
国家标准馆
国家数字标准馆
发展大事记
搜索
高级检索
批量检索
高级检索
起草人: 由佰玲
标准层级
全部
国家标准
行业标准
地方标准
团体标准
国际（区域）标准
国外国家标准
国际性专业标准
技术法规
国家
全部
中国(11)
标准组织
全部
国家标准(8)
团体标准(2)
有色金属(1)
发布年代
全部
2024(1)
2023(3)
2022(3)
2021(1)
2017(1)
2016(1)
2015(1)
标准状态
全部
现行(11)
ICS
全部
01综合、术语学、标准化、文献(1)
29电气工程(5)
31电子学(1)
77冶金(4)
CCS
全部
H冶金(9)
展开全部分类
排序结果：
相关性
标准号
发布时间
现行
T/QGCML 2289-2023
高频宽带单晶氮化铝滤波器生产工艺规范
到馆提醒
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2023-11-21
CCS分类：
ICS分类：
31.140频率控制和选择用压电器件与介质器件
现行
T/ICMTIA SM0028-2022
集成电路用电子级多晶硅
到馆提醒
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2022-05-10
CCS分类：
ICS分类：
01.020术语学(原则和协调配合)
现行
YS/T 1167-2016
硅单晶腐蚀片
到馆阅读
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
Monocrystalline silicon etched wafers
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2016-07-11
CCS分类：
H82元素半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 42789-2023
硅片表面光泽度的测试方法
到馆阅读
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
Test method for gloss of silicon wafer
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2023-08-06
CCS分类：
H21金属物理性能试验方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
GB/T 12962-2015
硅单晶
到馆阅读
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
Monocrystalline silicon
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2015-12-10
CCS分类：
H82元素半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 40279-2021
硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
到馆阅读
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2021-08-20
CCS分类：
H21金属物理性能试验方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
GB/T 41325-2022
集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片
到馆阅读
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
Low density crystal originated pit polished monocrystalline silicon wafers for integrated circuit
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2022-03-09
CCS分类：
H82元素半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 35309-2017
用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程
到馆阅读
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2017-12-29
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
GB/T 26069-2022
硅单晶退火片
到馆阅读
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
Annealed monocrystalline silicon wafers
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2022-03-09
CCS分类：
H82元素半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 14264-2024
半导体材料术语
到馆提醒
收藏跟踪
分享链接
微信扫一扫：分享
微信里点“发现”，扫一下
二维码便可将本文分享至朋友圈。
Terminology of semiconductor materials
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2024-04-25
CCS分类：
H80半金属与半导体材料综合
ICS分类：
29.045半导体材料
【到馆阅览须知】
国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
1. 本馆向在国家数字标准馆网络平台上完成实名注册和预约的读者开放。
2. 请勿在非开放范围随意走动和从事与国家标准馆所提供服务无关的活动。
3. 请勿携带食品、有色和含糖饮料进入阅览区域。
4. 禁止在馆区内吸烟和使用明火，禁止携带易燃、易爆、有毒等危险品。
5. 请注意仪表着装，衣冠整洁得体，言谈举止文明。
6. 请遵守公共秩序和国家标准馆相关管理规定，服从工作人员管理，自觉维护参观秩序和良好的阅读环境。
开放时间：
每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
乘坐地铁10号线、昌平线，在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
服务咨询：
赵老师 电话：010-58811369 邮箱：zhaoping@cnis.ac.cn
刘老师 电话：010-58811368 邮箱：liuyzh@cnis.ac.cn
取消
确认预约到馆
搜索
首页
馆藏资源
舆情信息
标准服务
科研活动
关于我们
️版权归中国标准化研究院所有