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现行
GB/T 38341-2019
微机电系统(MEMS)技术 MEMS器件的可靠性综合环境试验方法
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Micro-electromechanical system technology—The reliability test methods of MEMS in integrated environments
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2019-12-31
CCS分类：
L55微电路综合
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
现行
GB/T 38446-2020
微机电系统（MEMS）技术 带状薄膜抗拉性能的试验方法
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Micro-electromechanical system technology—Test methods for tensile property measurement of strip thin films
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2020-03-06
CCS分类：
L55微电路综合
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
现行
GB/T 33929-2017
MEMS高g值加速度传感器性能试验方法
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Test methods of the performance for MEMS high g accelerometer
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2017-07-12
CCS分类：
L55微电路综合
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
现行
GB/T 38447-2020
微机电系统（MEMS）技术 MEMS结构共振疲劳试验方法
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Micro-electromechanical system technology—Fatigue testing method of MEMS structure using resonant vibration
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2020-03-06
CCS分类：
L55微电路综合
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
现行
GB/T 32817-2016
半导体器件 微机电器件 MEMS总规范
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Semiconductor devices—Micro-electromechanical devices—Generic specification for MEMS
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2016-08-29
CCS分类：
L55微电路综合
ICS分类：
31.080.99其他半导体分立器件
现行
GB/T 33922-2017
MEMS压阻式压力敏感芯片性能的圆片级试验方法
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Wafer level test methods for MEMS piezoresistive pressure-sensitive die performances
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2017-07-12
CCS分类：
L55微电路综合
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
现行
GB/T 34899-2017
微机电系统（MEMS）技术 基于拉曼光谱法的微结构表面应力测试方法
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Micro-electromechanical system technology—Measuring method of microstructure surface stress based on Raman spectroscopy
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2017-11-01
CCS分类：
L55微电路综合
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
被代替
GB/T 26111-2010
微机电系统(MEMS)技术 术语
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Micro-electromechanical system technology—Terms
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2011-01-10
CCS分类：
L55微电路综合
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
【到馆阅览须知】
国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
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开放时间：
每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
乘坐地铁10号线、昌平线，在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
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