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标准号
发布时间
现行
T/CNIA 0062-2020
电子工业用高纯氢氟酸
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2020-05-27
CCS分类：
D40/49有色金属矿
ICS分类：
71.060.01无机化学综合
现行
T/CNIA 0118-2021
电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
71.040.40化学分析
现行
T/CNIA 0120-2021
电子工业用高纯硝酸中痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
71.040.40化学分析
现行
T/CNIA 0103-2021
绿色设计产品评价技术规范 电子级氯硅烷
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/CNIA 0063-2020
电子工业用高纯硝酸
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2020-05-27
CCS分类：
H60/69有色金属及其合金产品
ICS分类：
71.060.01无机化学综合
被代替
GB/T 35306-2017
硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
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Test method for carbon and oxygen content of single crystal silicon—Low temperature fourier transform infrared spectrometry
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2017-12-29
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
GB/T 35306-2023
硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
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Determination of carbon and oxygen content in single crystal silicon—Low temperature fourier transform infrared spectrometry method
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2023-08-06
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
GB/T 37049-2018
电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2018-12-28
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040.30金属材料化学分析
现行
GB/T 35307-2023
流化床法颗粒硅
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Granular polysilicon produced by fluidized bed method
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2023-08-06
CCS分类：
H82元素半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 35309-2017
用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程
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Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2017-12-29
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
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国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
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每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
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