首页 馆藏资源 舆情信息 标准服务 科研活动 关于我们
国家标准 行业标准 地方标准 团体标准 国际（区域）标准 国外国家标准 国际性专业标准 技术法规
国内舆情 国际舆情
文献服务 知识服务 服务站点
标准数字化 技贸措施研究
国家标准馆 国家数字标准馆 发展大事记
搜索
高级检索
批量检索
高级检索
起草人: 胡金枝
标准层级
全部
国家标准
行业标准
地方标准
团体标准
国际（区域）标准
国外国家标准
国际性专业标准
技术法规
国家
全部
中国(4)
标准组织
全部
国家标准(4)
发布年代
全部
2020(2)
2019(2)
标准状态
全部
现行(4)
ICS
全部
29电气工程(2)
77冶金(2)
CCS
全部
H冶金(4)
展开全部分类
  • 排序结果：
  • 相关性
  • 标准号
  • 发布时间
现行
GB/T 39145-2020
硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
到馆阅读
收藏跟踪
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2020-10-11
现行
GB/T 16596-2019
确定晶片坐标系规范
到馆阅读
收藏跟踪
Specification for establishing a wafer coordinate system
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2019-03-25
现行
GB/T 38976-2020
硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法
到馆阅读
收藏跟踪
Test method for the oxygen concentration in silicon materials—Inert gas fusion infrared detection method
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2020-07-21
现行
GB/T 14139-2019
硅外延片
到馆阅读
收藏跟踪
Silicon epitaxial wafers
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2019-06-04
  • 关于国家数字标准馆
  • 《国家标准化发展纲要》提出建设国家数字标准馆，推动标准化工作向数字化、网络化、智能化转型。中国标准化研究院正在全力推进国家数字标准馆建设，力争在2026年底建成“一个中心”和“一个平台”，即全球领先的标准数据资源中心，涵盖标准全生命周期的数字化、网络化、智能化研究与服务平台。
    • 文献服务
  • 查标准
  • 看标准
  • 买标准
  • 译标准
    • 知识服务
  • 查新颖性
  • 查有效性
  • 跟踪标准
  • 比对标准
    • 标准数字化
  • 专题数据库
  • 标准管理系统
  • 大数据分析系统
  • 标准智能研制系统
    • 出版物经营许可证：新出发京批字第直170229号
    地址：北京市海淀区知春路4号
    邮箱：service@cnis.ac.cn
    技术支持与订单查询：010-58811972/1360/1341/1328 京ICP备10046988号-46
    ️版权归中国标准化研究院所有