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发布时间
现行
GB/T 16880-1997
光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则
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Guidelines for photomask defect classification and size definition
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
1997-06-20
CCS分类：
L97加工专用设备
ICS分类：
31.020电子元器件综合
现行
GB/T 29844-2013
用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
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Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2013-11-12
CCS分类：
L90电子技术专用材料
ICS分类：
31.030电子技术专用材料
现行
GB/T 16878-1997
用于集成电路制造技术的检测图形单元规范
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Specification for metrology pattern cells for integrated circuit manufacture
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
1997-06-20
CCS分类：
L97加工专用设备
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
现行
GB/T 16879-1997
掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
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Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
1997-06-20
CCS分类：
L97加工专用设备
ICS分类：
31.020电子元器件综合
现行
GB/T 17865-1999
焦深与最佳聚焦的测量规范
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Specification for measuring depth of focus and best focus
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
1999-09-13
CCS分类：
L56半导体集成电路
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
现行
GB/T 17866-1999
掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
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Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
1999-09-13
CCS分类：
L56半导体集成电路
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
现行
GB/T 17864-1999
关键尺寸（CD）计量方法
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CD Metrology procedures
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
1999-09-13
CCS分类：
L56半导体集成电路
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
现行
GB/T 16524-1996
光掩模对准标记规范
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Specification for registration marks for photomasks
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
1996-09-09
CCS分类：
L95电子工业生产设备综合
ICS分类：
31.200集成电路、微电子学
正在批准
20141083-T-469
微电子学微光刻技术术语
到馆提醒
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Terms of microlithography technology for microelectronics
发布单位或类别：
国家标准计划
下达日期：
2014-11-19
CCS分类：
L90电子技术专用材料
ICS分类：
31.030电子技术专用材料
【到馆阅览须知】
国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
1. 本馆向在国家数字标准馆网络平台上完成实名注册和预约的读者开放。
2. 请勿在非开放范围随意走动和从事与国家标准馆所提供服务无关的活动。
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4. 禁止在馆区内吸烟和使用明火，禁止携带易燃、易爆、有毒等危险品。
5. 请注意仪表着装，衣冠整洁得体，言谈举止文明。
6. 请遵守公共秩序和国家标准馆相关管理规定，服从工作人员管理，自觉维护参观秩序和良好的阅读环境。
开放时间：
每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
乘坐地铁10号线、昌平线，在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
服务咨询：
赵老师 电话：010-58811369 邮箱：zhaoping@cnis.ac.cn
刘老师 电话：010-58811368 邮箱：liuyzh@cnis.ac.cn
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