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发布时间
现行
GB/T 18867-2014
电子工业用气体 六氟化硫
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Gases for electronic industry—Sulphur hexaflouride
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2014-12-22
CCS分类：
G86工业气体与化学气体
ICS分类：
71.100.20工业气体
被代替
GB/T 29057-2012
用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程
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Practice for evaluation of polocrystalline silicon rods by float-zone crystal growth and spectroscopy
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2012-12-31
CCS分类：
H80半金属与半导体材料综合
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 31058-2014
电子工业用气体 四氟化硅
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Gases for electronic industry—Silicon tetrafluoride
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2014-12-22
CCS分类：
G86工业气体与化学气体
ICS分类：
71.100.20工业气体
被代替
GB/T 25074-2010
太阳能级多晶硅
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Solar-grade polycrystalline silicon
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2010-09-02
CCS分类：
H82元素半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
废止
GB/T 31417-2015
等离子显示器用荧光粉
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Phosphors for plasma display panel
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2015-05-15
CCS分类：
L90电子技术专用材料
ICS分类：
71.060.10化学元素
被代替
GB/T 29848-2013
光伏组件封装用乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)胶膜
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Ethylene-vinyl acetate copolymer(EVA)film for encapsulant solar module
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2013-11-12
CCS分类：
L90电子技术专用材料
ICS分类：
31.030电子技术专用材料
被代替
GB/T 24582-2009
酸浸取-电感耦合等离子质谱仪测定 多晶硅表面金属杂质
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Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2009-10-30
CCS分类：
H80半金属与半导体材料综合
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 31988-2015
印制电路用铝基覆铜箔层压板
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Aluminium base copper clad laminate for printed circuits
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2015-09-11
CCS分类：
L30印制电路
ICS分类：
31.180印制电路和印制电路板
【到馆阅览须知】
国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
1. 本馆向在国家数字标准馆网络平台上完成实名注册和预约的读者开放。
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6. 请遵守公共秩序和国家标准馆相关管理规定，服从工作人员管理，自觉维护参观秩序和良好的阅读环境。
开放时间：
每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
乘坐地铁10号线、昌平线，在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
服务咨询：
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