范围:本标准适用于以多晶硅副产六氯乙硅烷为原料提纯或化工合成的集成电路用六氯乙硅烷。集成电路用六氯乙硅烷主要用于半导体行业氧化硅膜、氮化硅膜的低温低压沉积工艺中，也是优良的硅氧烷前驱和光学纤维原料; 主要技术内容:本标准规定了集成电路用六氯乙硅烷的技术要求，检测方法，包装与运输及安全的要求。其中，检测方法涵盖抽样和判定原则、组分的测定和杂质元素含量的测定等内容