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KS C 6565-2002(2017)
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반도체 가속도 센서의 시험 방법
半导体加速度传感器的测试方法
该规格适用由照相蚀刻技术(照片排印术)制成的硅半导体加速度计。另外,该规格还包括多轴加速度计。
이 규격은 사진 식각 기술(포토리소그래피)에 의해서 만들어진 실리콘 반도체 가속도계를 적용한다. 또한 이 규격은 다중축 가속도계를 포함한다.
【到馆阅览须知】
国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号,可接待到馆读者,为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
1. 本馆向在国家数字标准馆网络平台上完成实名注册和预约的读者开放。
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开放时间:每周一至周五8:30-17:00(节假日不开放)
地 址:北京市海淀区知春路4号
乘车线路:乘坐地铁10号线、昌平线,在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
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