首页 馆藏资源 舆情信息 标准服务 科研活动 关于我们
现行 T/CNIA 0061-2020
到馆提醒
收藏跟踪
购买正版
硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
发布日期: 2020-05-27
实施日期: 2020-08-01
主要技术内容:本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。本标准适用于硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的测定。各元素测定下限为0.01 ng/g
分类信息
关联关系
研制信息
相似标准/计划/法规