现行

BS ISO 13084-2018

Surface chemical analysis. Secondary ion mass spectrometry. Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer
表面化学分析 二次离子质谱法 飞行时间二次离子质谱仪质量刻度的校准

2018-11-16

现行

GB/T 40129-2021

表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
Surface chemical analysis—Secondary ion mass spectrometry—Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer

2021-05-21

现行

ISO 13084-2018

Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer
表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 用于飞行时间二次离子质谱仪的质谱的校准

2018-11-15

现行

BS ISO 23830-2008

Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Repeatability and constancy of the relative-intensity scale in static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析 二次离子质谱法 静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性

2008-12-31

现行

ISO 23830-2008

Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Repeatability and constancy of the relative-intensity scale in static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析——二次离子质谱法——静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性

2008-11-05

现行

BS ISO 20411-2018

Surface chemical analysis. Secondary ion mass spectrometry. Correction method for saturated intensity in single ion counting dynamic secondary ion mass spectrometry
表面化学分析 二次离子质谱法 单离子计数动态二次离子质谱中饱和强度的校正方法

2018-03-14

现行

ISO 20411-2018

Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Correction method for saturated intensity in single ion counting dynamic secondary ion mass spectrometry
表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 单离子计数动态二次离子质谱法中饱和强度的校正方法

2018-03-09

现行

KS D ISO 22048(2020 Confirm)

표면 화학 분석－정적 이차 이온 질량 분광 분석법의 정보 포맷
表面化学分析 - 静态二次离子质谱的信息格式

2005-12-28

现行

BS ISO 22048-2004

Surface chemical analysis. Information format for static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析 静态二次离子质谱信息格式

2005-03-31

现行

AS ISO 22048-2006

Surface chemical analysis - Information format for static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析.静态二次离子质谱法的信息格式

2006-10-20

现行

ISO 22048-2004

Surface chemical analysis — Information format for static secondary-ion mass spectrometry
表面化学分析——静态二次离子质谱信息格式

2004-08-25

现行

ISO/TS 22933-2022

Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Method for the measurement of mass resolution in SIMS
表面化学分析.二次离子质谱法.模拟离子质谱中质量分辨率的测量方法

2022-04-01

现行

BS 10/30199193 DC

BS ISO 13084. Surface chemical analysis. Secondary ion mass spectrometry. Calibration of the mass scale for a time of flight secondary ion mass spectrometer
BS ISO 13084 表面化学分析 二次离子质谱法 飞行时间二次离子质谱仪质量刻度的校准

2010-04-22

现行

BS 07/30138812 DC

BS ISO 23830. Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Repeatability and constancy of the relative-intensity scale in static secondary-ion mass spectrometry
BS ISO 23830 表面化学分析 二次离子质谱法 静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性

2007-04-24

现行

BS ISO 17560-2014

Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Method for depth profiling of boron in silicon
表面化学分析 二次离子质谱法 硅中硼的深度剖面分析方法

2014-09-30

现行

BS ISO 12406-2010

Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Method for depth profiling of arsenic in silicon
表面化学分析 二次离子质谱法 硅中砷的深度分析方法

2010-11-30

现行

GB/T 40109-2021

表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon

2021-05-21

现行

GB/T 32495-2016

表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of arsenic in silicon

2016-02-24

现行

ISO 17560-2014

Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth profiling of boron in silicon
表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法

2014-09-10

现行

ISO 12406-2010

Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth profiling of arsenic in silicon
表面化学分析——二次离子质谱法——硅中砷的深度剖面分析方法

2010-11-08