GB/T 43313-2023-碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试共焦点微分干涉法-国家数字标准馆

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碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试共焦点微分干涉法 Test method for surface quality and micropipe density of polished silicon carbide wafers—Confocal and differential interferometry optics

发布日期： 2023-11-27

实施日期： 2024-06-01

分类信息

发布单位或类别：中国-国家标准

CCS分类： H21冶金 - 金属理化性能试验方法 - 金属物理性能试验方法

ICS分类： 77.040冶金 - 金属材料试验

关联关系

研制信息

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位：中国电子科技集团公司第四十六研究所、山东天岳先进科技股份有限公司、常州臻晶半导体有限公司、湖州东尼半导体科技有限公司、厦门坤锦电子科技有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、广东天域半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、中国科学院半导体研究所、ＴＣＬ环鑫半导体（天津）有限公司、浙江东尼电子股份有限公司

起草人：姚康、刘立娜、何烜坤、李素青、马春喜、高飞、张红岩、陆敏、郑红军、房玉龙、芦伟立、丁雄杰、刘薇、李嘉炜、晏阳、钮应喜、杨玉聪、黄树福

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