光掩模石英玻璃基板
Silica glass substrates for photomask
发布日期：
2017-09-07
实施日期：
2018-08-01
本标准规定了光掩模石英玻璃基板(以下简称石英玻璃基板）的术语和定义、要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本标准适用于半导体集成电路、光通讯、微机电系统(MEMS) 、光电器件和发光二级管 (LED)等光刻工艺中光掩模石英玻璃基板
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地 址：北京市海淀区知春路4号
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