现行

BS ISO 10110-13-1997

Optics and optical instruments. Preparation of drawings for optical elements and systems-Laser irradiation damage threshold
光学和光学仪器 准备光学元件和系统的图纸 激光辐照损伤阈值

1998-03-15

现行

BS ISO 10110-17-2004

Optics and optical instruments. Preparation of drawings for optical elements and systems-Laser irradiation damage threshold
光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制

2004-06-01

现行

KS B ISO 10110-6

광학 및 포토닉스 — 광학 부품 및 광학계의 도면작성 — 제6부: 편심공차
光学和光学仪器光学元件和系统图纸的制备第6部分:定心公差

2017-11-27

现行

KS B ISO 10110-8

광학 및 포토닉스 — 광학 부품 및 광학계의 도면작성 — 제8부: 표면질감; 거칠기 및 파형
光学和光学仪器光学元件和系统图纸的制备第8部分:表面结构

2017-11-27

现行

KS B ISO 10110-6(2022 Confirm)

광학 및 포토닉스 — 광학 부품 및 광학계의 도면작성 — 제6부: 편심공차
光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的编制.第6部分:定心公差

2017-11-27

现行

KS B ISO 10110-8(2022 Confirm)

광학 및 포토닉스 — 광학 부품 및 광학계의 도면작성 — 제8부: 표면질감; 거칠기 및 파형
光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第8部分:表面结构

2017-11-27

现行

KS B ISO 10110-9(2022 Confirm)

광학 및 포토닉스 — 광학 부품 및 광학계의 도면작성 — 제9부: 표면처리 및 코팅
光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第9部分:表面处理和涂层

2017-11-27

现行

KS B ISO 10110-7

광학 및 포토닉스 — 광학 부품 및 광학계의 도면작성 — 제7부: 표면결함 공차
光学和光学仪器光学元件和系统图纸的制备第7部分:表面缺陷公差

2017-11-27

现行

KS B ISO 10110-9

광학 및 포토닉스 — 광학 부품 및 광학계의 도면작성 — 제9부: 표면처리 및 코팅
光学和光学仪器光学元件和系统图纸的制备第9部分:表面处理和涂层

2017-11-27

现行

KS B ISO 10110-7(2022 Confirm)

광학 및 포토닉스 — 광학 부품 및 광학계의 도면작성 — 제7부: 표면결함 공차
光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第7部分:表面缺陷公差

2017-11-27

现行

KS B ISO 10110-2

광학 및 광학기기－광학 부품 및 광학계의 도면작성－제2부：소재의 결함－응력 복굴절
光学和光学仪器光学元件和系统图纸的制备第2部分:材料缺陷应力双折射

2017-09-28

现行

KS B ISO 10110-3

광학 및 광학기기－광학 부품 및 광학계의 도면 작성－제3부：소재의 결함－기포 및 함유물
光学和光学仪器光学元件和系统图纸的制备第3部分:材料缺陷气泡和夹杂物

2017-09-28

现行

KS B ISO 10110-2(2022 Confirm)

광학 및 광학기기－광학 부품 및 광학계의 도면작성－제2부：소재의 결함－응력 복굴절
光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第2部分:材料缺陷.应力双折射

2017-09-28

现行

KS B ISO 10110-3(2022 Confirm)

광학 및 광학기기－광학 부품 및 광학계의 도면 작성－제3부：소재의 결함－기포 및 함유물
光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第3部分:材料缺陷.气泡和夹杂物

2017-09-28

现行

KS B ISO 10110-4(2022 Confirm)

광학 및 광학기기－광학 부품 및 광학계의 도면 작성－제4부：소재의 결함－불균일성 및 줄무늬
光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第4部分:材料缺陷.不均匀性和条纹

2017-09-28

现行

DIN ISO 10110 Supplement 1

Optics and optical instruments - Preparation of drawings for optical elements and systems - Comparison DIN ISO 10110 - DIN 3140; index
光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.比较DIN ISO 10110-DIN 3140；指数

2000-02-01

现行

BS ISO 10110-1-2019

Optics and photonics. Preparation of drawings for optical elements and systems-General
光学和光子学 光学元件和系统图纸的编制

2019-10-11

现行

BS ISO 10110-6-2015

Optics and photonics. Preparation of drawings for optical elements and systems-Centring tolerances
光学和光子学 光学元件和系统图纸的编制

2015-07-31

现行

BS ISO 10110-8-2019

Optics and photonics. Preparation of drawings for optical elements and systems-Surface texture
光学和光子学 光学元件和系统图纸的编制

2019-11-22

现行

BS ISO 10110-12-2019

Optics and photonics. Preparation of drawings for optical elements and systems-Aspheric surfaces
光学和光子学 光学元件和系统图纸的编制

2019-11-29