저주파와 중간주파수 범위에서 전기 또는 자기장에 노출 - 인체에 유도된 전류밀도와 내부 전기장을 계산하기 위한 방법 - 제1부 : 일반사항
暴露在低频和中频范围电场或磁场 - 用于计算电流密度和在人体内诱发的内部电场方法 - 第一部分:一般
发布日期:
2008-08-08
该标准在与美国电力电子学会(IEEE)和国际非电离辐射防护委员会(ICNIRP)发布的类似的暴露标准或指南中描述的低频和中频频率下,为证明基本限制对电磁场暴露人体的适用性提供了方法。KS C IEC 62226的目的是:-建议对人体暴露在低频电磁场中的建模和使用场致辐射源、人体或两边都在增加的一系列复杂模型进行更真实的处理。-对人体内组织的电气变量提出标准化的标准:目标不是取代IEEE或ICNIRP发布的类似于暴露标准或指南中描述的定义和过程,包括频率、电气电导率和遗传率,以及它们的变化量目前的基本标准。目标是批准该文件的适用性评价,并提供额外的程序。目前的基本标准没有精巧的模型,为证明基本限制的适用性提供了方法。
尽管如此,当暴露的环境被很好地定型时(例如产品标准),以及当这种模型的结果有效时,它们可以被用来证明电机磁场(EMF)标准或指南的适用性。备注1精巧模型使用的例子可以在IEC动向技术综合评价[2]中找到。备注2科学论文的参考文献在参考文献中。
이 표준은 미국 전기전자 학회(IEEE)와 국제 비전리 복사 방호 위원회(ICNIRP)에서 발행된 것과 유사 한 노출 표준 또는 지침에 기술된 저주파와 중간주파수에서, 전기 자기장의 인체노출에 대하여 기본 제 한의 적합성을 증명하기 위한 방법을 제공한다. KS C IEC 62226의 목적은 다음과 같다. - 저주파의 전기 자기장에 대한 인체노출의 모델링과 필드 방사 발생원, 인체 또는 양쪽 모두에 대해 증가하는 일련의 복잡한 모델을 사용하는 것에 대해 더 사실적인 접근을 제안하는 것. - 인체 내 조직의 전기적 변수에 대해 표준화된 기준을 제안하는 것:주파수와 함께 전기적 도전율과 유전율 그리고 그들의 변화량 현재의 기본 표준은 IEEE 또는 ICNIRP에서 발행한 것과 유사한 노출 표준 또는 지침에 기술된 정의와 과정을 대체하는 것이 목표가 아니라, 이 문서의 적합성 평가를 승인하는 관점과 함께 추가적인절차제 공을 목표로 하고 있다. 현재의 기본 표준은 정교한 모델 없이 기본 제한에 대한 적합성을 증명하기 위한 방법을 제공한다. 그럼에도 불구하고, 노출의 환경이 잘 정형화되었을 때(예:제품 표준) 그리고 그런 모델의 결과가 유 효할 때, 그들은 전기자기장(EMF) 표준 또는 지침의 적합성을 증명하는 데 이용될 수 있다. 비고 1 정교한 모형의 사용의 예는 IEC 동향기술종합평가[2]1)에서 찾을 수 있다. 비고 2 과학 논문의 참조는 참고문헌에 주어져 있다.