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工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4:Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
发布日期:
2014-12-05
实施日期:
2015-08-01
分类信息
发布单位或类别:
中国-国家标准
CCS分类:
H12冶金 - 金属化学分析方法 - 轻金属及其合金分析方法
ICS分类:
77.120.10有色金属 - 铝和铝合金
关联关系
研制信息
归口单位:
全国有色金属标准化技术委员会
起草单位:
昆明冶金研究院、
中国铝业股份有限公司郑州研究院、
昆明冶研新材料股份有限公司、
云南出入境检验检疫局技术中心
起草人:
刘维理、
王劲榕、
李跃平、
赵德平、
杨毅
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