DIN 51456-半导体技术材料的检验.用电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）在水分析溶液中通过多元素测定对硅片进行表面分析-国家数字标准馆

现行 DIN 51456

到馆提醒

收藏跟踪

购买正版

Testing of materials for semiconductor technology - Surface analysis of silicon wafers by multielement determination in aqueous analysis solutions using mass spectrometry with inductively coupled plasma (ICP-MS) 半导体技术材料的检验.用电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）在水分析溶液中通过多元素测定对硅片进行表面分析

发布日期： 2013-10-01

分类信息

发布单位或类别：德国-德国标准化学会

关联关系

研制信息

相似标准/计划/法规

现行

DIN 50450-3

Testing of materials for semiconductor technology; determination of impurities in carrier gases and doping gases; determination of methane impurity in H<(Index)2>, O<(Index)2>, N<(Index)2>, Ar and He by using a flame ionization detector (FID)
半导体技术材料测试；载气和掺杂气体中杂质的测定；用火焰离子化检测器（FID）测定H<（指数）2>、O<（指数）2>、N<（指数）2>、Ar和He中的甲烷杂质

1991-03-01