GB/T 19922-2005-硅片局部平整度非接触式标准测试方法-国家数字标准馆

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硅片局部平整度非接触式标准测试方法 Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning

发布日期： 2005-09-19

实施日期： 2006-04-01

分类信息

发布单位或类别：中国-国家标准

CCS分类： H17冶金 - 金属化学分析方法 - 半金属及半导体材料分析方法

ICS分类： 77.040.01金属材料试验 - 金属材料试验综合

关联关系

研制信息

归口单位：工业和信息化部（电子）

起草单位：洛阳单晶硅有限责任公司

起草人：史舸、蒋建国、陈兴邦、贺东江、王文、邓德翼

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