GB/T 39145-2020-硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法-国家数字标准馆

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硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法 Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry

发布日期： 2020-10-11

实施日期： 2021-09-01

本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法

分类信息

发布单位或类别：中国-国家标准

CCS分类： H17冶金 - 金属化学分析方法 - 半金属及半导体材料分析方法

ICS分类： 77.040冶金 - 金属材料试验

关联关系

研制信息

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位：南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有限公司、厦门科鑫电子有限公司

起草人：骆红、潘文宾、赵而敬、孙燕、张海英、徐新华、温子瑛、胡金枝、李素青、马林宝、李俊需

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