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现行
GA/T 721.4-2021
显现潜在手印试剂通用技术要求　第4部分：7-苄胺基-4-硝基苯并呋咱(BBD)
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General technical requirements for reagents of developing latent fingerprints—Part 4:7-Benzylamino-4-nitrobenz-oxa-1,3-diazole(BBD)
发布单位或类别：行业标准-公共安全标准
发布日期： 2021-10-14
现行
GA/T 721.5-2021
显现潜在手印试剂通用技术要求　第5部分：1,2-茚二酮(IDO)
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General technical requirements for reagents of developing latent fingerprints—Part 5:1,2-Indanedione(IDO)
发布单位或类别：行业标准-公共安全标准
发布日期： 2021-10-14
现行
GA/T 721.2-2021
显现潜在手印试剂通用技术要求　第2部分：3,3′,5,5′-四甲基联苯胺(TMB)
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General technical requirements for reagents of developing latent fingerprints—Part 2:3,3′,5,5′-Tetramethylbenzidine(TMB)
发布单位或类别：行业标准-公共安全标准
发布日期： 2021-10-14
现行
GA/T 721.1-2021
显现潜在手印试剂通用技术要求　第1部分：水合茚三酮(NIN)
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General technical requirements for reagents of developing latent fingerprints—Part 1:Ninhydrin hydrate(NIN)
发布单位或类别：行业标准-公共安全标准
发布日期： 2021-10-14
现行
GA/T 721.3-2021
显现潜在手印试剂通用技术要求　第3部分：1,8-二氮芴-9-酮(DFO)
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General technical requirements for reagents of developing latent fingerprints—Part 3:1,8-Diazafluoren-9-one(DFO)
发布单位或类别：行业标准-公共安全标准
发布日期： 2021-10-14
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