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起草人: 任殿胜
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SJ 20842-2002
砷化镓表面镓砷比的测试方法
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Test method for Ga/As ratio of surface of gallium arsenide
发布单位或类别：行业标准-电子
发布日期： 2002-10-30
CCS分类：
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SJ/T 10714-1996
检查X射线光电子能谱仪工作特性的标准方法
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Standard practice for checking the operation characteristics of X-ray photoelectron spectrometers
发布单位或类别：行业标准-电子
发布日期： 1996-07-22
ICS分类：71.040分析化学
未生效
GB/T 24578-2024
半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法
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Test method for measuring surface metal contamination on semiconductor wafers —Total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2024-07-24
现行
GB/T 1555-2023
半导体单晶晶向测定方法
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Test methods for determining the orientation of a semiconductive single crystal
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2023-08-06
现行
GB/T 6616-2023
半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法
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Test method for resistivity of semiconductor wafers and sheet resistance of semiconductor films—Noncontact eddy-current gauge
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2023-08-06
现行
GB/T 42676-2023
半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法
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Test method for crystalline quality of semiconductive single crystal—X-ray diffraction method
发布单位或类别：国家标准
发布日期： 2023-08-06
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