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现行
Test method for electromigration effect
发布单位或类别:行业标准-电子
发布日期: 2018-01-18
CCS分类:
ICS分类:
现行
SJ 21384-2018
氧化层可动电荷的电容-电压测试方法
Test method of capacitance-voltage for mobile ion charge of oxides
发布单位或类别:行业标准-电子
发布日期: 2018-01-18
CCS分类:
ICS分类:
现行
Test method for P-N junction isolation
发布单位或类别:行业标准-电子
发布日期: 2018-01-18
CCS分类:
ICS分类:
现行
Test method for the ion implantation uniformity
发布单位或类别:行业标准-电子
发布日期: 2018-01-18
CCS分类:
ICS分类:
现行
SJ 21381-2018
时间相关介质击穿(TDD8)测试方法
Test method for time dependent dielectric breakdown ( TDDB)
发布单位或类别:行业标准-电子
发布日期: 2018-01-18
CCS分类:
ICS分类:
现行
Test method of hot carrier effect
发布单位或类别:行业标准-电子
发布日期: 2018-01-18
CCS分类:
ICS分类:
正在批准
Semiconductor devices – Constant current electromigration test
发布单位或类别:国家标准计划
下达日期: 2021-08-24
CCS分类:L55微电路综合
正在批准
20213170-T-339
半导体器件 金属氧化物半导体(MOS) 晶体管的热载流子试验
Semiconductor devices - Hot carrier test on metal-oxide semiconductor(MOS) transistors
发布单位或类别:国家标准计划
下达日期: 2021-08-24
CCS分类:L55微电路综合