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作废 DB53/T 500-2013
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多晶硅用三氯氢硅组分含量测定 气相色谱法
发布日期: 2013-08-01
实施日期: 2013-10-01
本标准规定了气相色谱法测定多晶硅用三氯氢硅中SiHCl3、SiH2Cl2、SiCl4、HCl 组分含量的方法。本标准适用于改良西门子法生产多晶硅用三氯氢硅中SiHCl3、SiH2Cl2、SiCl4、HCl含量的测定。测定范围: SiH2Cl2 >0.01%,SiCl4>0.01%,HCl>0.01%
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