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气相色谱法测定多晶硅生产中氢化尾气 组分含量
发布日期：
2014-08-28
实施日期：
2014-12-01
本标准规定了气相色谱法测定多晶硅生产中氢化尾气组分含量测定的方法提要、试剂与材料、仪器及装置、分析步骤、结果计算、精密度、试验报告。 本标准适用于氢化尾气中氢气(H2)、氯化氢(HCl)、二氯二氢硅(SiH2Cl2)、三氯氢硅(SiHCl3)和四氯化硅(SiCl4)含量的测定.
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地 址：北京市海淀区知春路4号
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