독성가스 및 온실가스 스크러버
有毒气体与温室气体洗涤器
该标准对半导体、显示器制造工艺等使用的流入气体流量在3000L/min以下的燃烧、热源、等离子体、水处理、复合形式的毒性气体及温室气体的一次冲刷进行了规定。
이 표준은 반도체, 디스플레이 제조공정 등에 사용되는 유입가스 유량 3 000 L/min 이하의 연소, 열원, 플라즈마, 수처리, 복합 형식의 독성가스 및 온실가스의 1차 스크러버에 대하여 규정한다.
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