YS/T 1025-2015-电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材-国家数字标准馆

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电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film

发布日期： 2015-04-30

实施日期： 2015-10-01

本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材，以下简称高纯钨及钨合金靶

分类信息

发布单位或类别：中国-行业标准-有色金属

CCS分类： H63冶金 - 有色金属及其合金产品 - 稀有高熔点金属及其合金

ICS分类： 77.150.99有色金属产品 - 其他有色金属产品

关联关系

研制信息

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

起草单位：宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司、株洲凯特实业有限公司、西安方科新材料科技有限公司

起草人：姚力军、王学泽、丁照崇、张涛、扶元初、袁海军、郑文翔、宋佳、苏国平、钱红兵、袁洁、王兴权、张玉利、王越、杜铁路

相似标准/计划/法规

GB/T 29658-2013

电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film

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