首页 馆藏资源 舆情信息 标准服务 科研活动 关于我们
搜索
高级检索
批量检索
标准层级
全部
国家标准
行业标准
地方标准
团体标准
国际(区域)标准
国外国家标准
国际性专业标准
技术法规
国家
全部
中国(4)
标准组织
全部
国家标准(4)
发布年代
全部
2023(3)
2010(1)
标准状态
全部
现行(4)
ICS
全部
77冶金(4)
CCS
全部
H冶金(4)
展开全部分类
  • 排序结果:
  • 相关性
  • 标准号
  • 发布时间
现行
GB/T 42676-2023
半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法
Test method for crystalline quality of semiconductive single crystal—X-ray diffraction method
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2023-08-06
现行
GB/T 6616-2023
半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法
Test method for resistivity of semiconductor wafers and sheet resistance of semiconductor films—Noncontact eddy-current gauge
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2023-08-06
现行
GB/T 26070-2010
化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2011-01-10
现行
Test methods for determining the orientation of a semiconductive single crystal
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2023-08-06