T/NXCL 28-2024-半导体级单晶硅生长用合成石英坩埚-国家数字标准馆

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半导体级单晶硅生长用合成石英坩埚

发布日期： 2024-02-06

实施日期： 2024-02-06

主要技术内容:本文件规定了半导体级单晶硅生长用合成石英坩埚的术语和定义、规格尺寸、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存等方面的内容。本文件适用于合成石英砂（成分：二氧化硅）为内层原料，采用电弧熔融法工艺生产，应用于直拉法半导体级单晶硅生长的石英坩埚

分类信息

发布单位或类别：中国-团体标准

ICS分类： 29.045电气工程 - 半导体材料

关联关系

研制信息

归口单位：宁夏材料研究学会

起草单位：宁夏盾源聚芯半导体科技股份有限公司、宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司、宁夏大学、宁夏高创特能源科技有限公司、宁夏旭樱新能源科技有限公司

起草人：李长苏、熊欢、何玉鹏、陈荣贵、王建军、史海贝、闫素婷、陈金莲、马万保、马荣天、王黎光、芮阳、李海波、盛旺、田宝春

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