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半导体单晶硅生长用石英坩埚
发布日期: 2021-07-15
实施日期: 2021-12-25
范围:本文件界定了半导体单晶硅生长用石英坩埚的术语和定义, 并规定了尺寸偏差、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、储存。 本文件适用于以高纯石英砂(成份:二氧化硅)为原料,采用电弧熔融法生产,用于半导体单晶硅生长用石英坩埚; 主要技术内容:本文件界定了半导体单晶硅生长用石英坩埚的术语和定义, 并规定了尺寸偏差、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、储存。本文件适用于以高纯石英砂(成份:二氧化硅)为原料,采用电弧熔融法生产,用于半导体单晶硅生长用石英坩埚
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